掩模對準光刻系統包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面

更新時間：2022-11-17 | 點擊率：837

　　掩模對準光刻系統與我們的生活息息相關，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻系統是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。

　　光刻系統的技術原理：

　　掩模對準光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

　　這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。

　　掩模對準光刻系統是一種精密的微細加工技術。常規光刻系統是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現圖形的變換、轉移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質層上的一種工藝。

　　在廣義上，掩模對準光刻系統包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面：

　　1、光復印工藝：經曝光系統將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預涂在晶片表面或介質層上的光致抗蝕劑薄層上。

　　2、刻蝕工藝：利用化學或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質層除去，從而在晶片表面或介質層上獲得與抗蝕劑薄層圖形整體一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而掩模對準光刻工藝總是多次反復進行。例如，大規模集成電路要經過約10次掩模對準光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。