EVG納米壓印技術用于制作3D光學納米結構

首CHUANG的解決方案將SwissLitho NanoFrazo系統的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術的高產量和成本效益相結合

面向 MEMS、納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領仙供應商 EVG與新型納米光刻技術制造商 SwissLitho AG 宣布推出聯合解決方案，可生產最小到單納米級的 3D 結構。這一方案在歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）"項目中進行了shouci演示，涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統和EVG的HERCULES® NIL 系統，前者可制作具有納米壓印光刻（NIL）的3D結構的壓印母板，后者采用 SmartNIL® 技術來高效地量產這些結構。

目標應用

EVG和SwissLitho最初的目標是開發衍射光學元件和其他相關光學組件，以支持光子學、數據通信、增強/虛擬現實（AR / VR）和其他應用，并有可能擴展到生物技術、納米流體和其他納米技術應用。

作為聯合解決方案的一部分，SwissLitho的NanoFrazo系統將用于創建壓印母版。與傳統方法（包括電子束和灰度光刻）相比，運用這一新技術打印3D結構可實現wuyulunbi的精度。創建生產過程中的工作模板則由EVG的HERCULES NIL系統來完成，它采用EVG duyou的大面積納米壓印SmartNIL技術，jiju成本效益。

EVG企業技術總監Thomas Glinsner博士指出：“SwissLitho的NanoFrazor方案與EVG的SmartNIL技術高度互補。我們可以攜手為光子學和其他涉及3D 結構圖案的應用提供完整的NIL解決方案，為兩家公司擴大客戶群和市場范圍提供重要機會。NILPhotonics®技術中心將成為對此感興趣的客戶的第一選擇，我們將會提供可行性研究、方案演示和中試服務。“

技術細考

NanoFrazor背后的熱掃描探針光刻技術，由蘇黎世的IBM研究院發明，后來被SwissLitho AG收購。這種無掩模、直接寫入光刻方法是在圖案化之前將dute的熱敏光刻膠旋涂到樣品表面。然后使用加熱的超尖探針局部分解和蒸發光刻膠，同時檢查寫入的納米結構；接下來使用剝離、蝕刻、電鍍、模塑或其他方法將產生的任意光刻膠圖案轉移到任何其他材料中。

“我們開發了NanoFrazor系列，為昂貴的電子束光刻系統提供高性能、經濟實惠的替代方案，"SwissLitho的shouxi執行官Felix Holzner博士說。“該項技術允許在一個步驟中制造具有許多'層級'的母版。尤其是與傳統的電子束或灰度光刻方法相比，具有單納米精度的3D結構能夠更容易地制造出來，且保真度更高。我們期待著在奧地利的NILPhotonic技術中心與客戶一道工作，將我們的技術與EVG的SmartNIL工藝進行成功的結合。

HERCULES NIL將EVG在NIL，光刻膠加工和大批量制造解決方案領域積累的專業知識整合到一個集成系統中，為200毫米晶圓提供高達40片每小時的產量。該系統的可配置模塊化平臺可適應各種壓印模塊和結構尺寸，使客戶在滿足其制造需求方面具有更大的靈活性。此外，它能夠制作多用途軟印章，有助于延長壓印母板的使用壽命。

關于 SwissLitho

SwissLitho是一家屢獲殊榮的初創公司，成立于2012年，其愿景是chedi改變納米制造。該公司開發、制造和銷售一種新型無掩模納米光刻技術，具有高分辨率和dute的功能，如 3D 圖案化和原位計量，有可能取代和擴展電子束光刻等傳統圖案化技術。客戶使用SwissLitho dute的NanoFrazor工具來制造新型的電氣，光學，磁性和生物納米器件，這些器件以前是無法制造的。

關于EVG

EV Group (EVG) 是為半導體、微機電系統 (MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米器件制造提供大批量生產設備和工藝解決方案的領仙供應商。主要產品包括晶圓鍵合、薄晶圓加工和光刻/光刻納米壓印 (NIL) 設備，光刻膠涂布機，以及清潔和檢測/計量系統。EVG 成立于 1980 年，為全球各地的客戶和合作伙伴提供服務和支持。